第414章 你到底為什麼回國?(1 / 2)

學霸之巔 可樂要加糖 1081 字 2023-04-20






徐佑知道,黃思白最近一直在魔都,想要來薊京大學一趟,其實還是挺不容易的。

「最近還好,也正好要回總公司一趟,所以就過來找您了。」黃思白笑著說道。

聽黃思白這麼說,徐佑總算沒有什麼心理負擔了。

簡單的詢問了幾句後,黃思白開始詳細的給徐佑講解起了,自己最近的這個成果。

「徐教授,最近我做的研究,是有關euv光刻機的三維掩模成像技術。」

「三維掩模成型技術?」徐佑問道。

「是的,徐教授。三維掩模成像技術,對euv光刻成像質量有很大的影響。三維掩模成像模型,是進行euv光刻成像彷真的基礎。」

簡單的說,光刻機的工作原理,與照相機有一些類似。

光刻機發出的光,通過具有圖形的光罩,能夠對塗有光刻膠的薄片曝光。

光刻膠見光後會發生性質變化,從而使光罩上的圖形複印到薄片上。

這樣一來,薄片就具有電子線路圖的作用了。

隻是,與照相機的二維成像不同,光刻機光刻出的電子元件和電路圖,是三維的成像。

這就是黃思白這項成果的重要意義。

聽著黃思白的講解,徐佑越發的興奮起來。

「黃工,你帶相關的資料過來了嗎?可不可以讓我看一下更詳細的內容?」

「嗯,徐教授,我帶了,等我開一下電腦。」

黃思白也是第一次和徐佑進行學術上的交流,顯得有些緊張和激動。

黃思白沒有想到,徐佑對於這些不屬於他領域上的學術問題,竟然會問得這麼仔細。

徐佑的專業程度,甚至並不亞於euv光刻機項目組的那些科研人員。

「黃工,這裡掩模衍射譜的計算,是通過傅立葉變換得到的吧?」徐佑指著資料中的一處問道。

「是的,徐教授,當掩模厚度較小,掩模圖形尺寸較大時,掩模衍射譜可以採用薄掩模模型計算。通過傅立葉變換,得到掩模kirchhoff遠場衍射的結果……」

「黃工,這裡是不是用到了厄米對稱性的性質?」

「沒錯。為了進一步提高hopkins成像模型的計算效率,可以根據矩陣的厄米對稱性對其進行奇異值分解,並將這個公式截斷……」

為了解答徐佑提出的一個個問題,黃思白已經累得滿頭大汗了。

這種勞累感,並不是因為體力的消耗,而是腦力的大量消耗。

而徐佑卻非常享受這種學習的過程,臉上滿是輕鬆和喜悅的神色。

現在的徐佑,根本不需要進入到深度學習狀態,就可以輕鬆的解決各種科研問題。

深度學習狀態,對於徐佑來說,隻是相當於一個加速器而已。

這時,黃思白擦了擦額頭上的汗水,嘗試著問道:

「徐教授,我可以了解一些龍芯g1的資料嗎?這對我們的光刻機研究,會有一定幫助的。」

徐佑聞言一愣道:「龍芯g1?這款晶片並沒有使用到euv光刻機的技術啊。」





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